产品分类：吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特性：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料消除率。产品工艺及用途：适合于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提高效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化取代。吉致sic碳化硅抛光液贮存方法：通风，阴凉，干燥的库房，该产品需在5-35℃贮存，预防阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以取代进口同类产品。本土化生产的特点使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格优惠亲民。吉致cmp抛光耗材适合范围吉致具备成熟的生产工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方法！